VECTOR HTR ist eine synthetische Zusammensetzung, die für das Abspülen und die Nasslagerung von Substraten nach dem Läppen, Polieren, Sägen oder Strukturieren entwickelt wurde. Bei sachgerechter Anwendung minimiert VECTOR HTR die Kratzer, die durch die Handhabung während des Prozesses entstehen, und schützt die Substrate vor Fleckenbildung. Ausserdem verhindert VECTOR HTR, dass schwer zu reinigende Schlammreste an der Substratoberfläche haften bleiben. Dies ermöglicht eine effektivere nachgeschaltete Reinigung.

VECTOR HTR wird für die Verwendung auf mono- und multikristallinem Silizium empfohlen. Bei Solarsiliziumherstellern wird VECTOR HTR verwendet, um über-schüssige Suspensionsrückstände von Wafern nach dem Drahtsägen abzuspülen. Vor der Demontage werden die Wafer mit einer Lösung aus 3 % bis 4 % VECTOR HTR und DI-Wasser gespült, um Fleckenbildung zu vermeiden und die endgültigen Reinigungsergebnisse zu verbessern. VECTOR HTR wird auch zur Nasslagerung von Wafern nach der Demontage und vor der Reinigung verwendet.

Für Hersteller von Halbleitersilizium wird VECTOR HTR für das Spülen und Waschen von Läppplatten empfohlen. Es entfernt Prozessrückstände sowohl von der Plattenoberfläche als auch von den Rillen. VECTOR HTR verhindert so die Bildung von Aggregaten aus Eisenoxid und Schleifpartikeln, die sich ablösen und Kratzer verursachen können. Wenn VECTOR HTR zum Spülen und Waschen von Polierpads verwendet wird, verhindert es Fleckenbildung, erhöht die Lebensdauer der Pads, indem es die Porenstruktur offen hält, und reduziert die Häufigkeit der Pad-Konditionierung.