Pureon bringt neue SiC-Polierlösungen auf den Markt: IRINO-PROSiC Polierpad und PURE-DS-RT Suspension

Pureon bringt neue SiC-Polierlösungen auf den Markt:
IRINO-PROSiC Polierpad und PURE-DS-RT Suspension

Mit dem neuen IRINO-PROSiC-Komposit Polierpad und der dazugehörigen Suspension PURE-DS-RT denken wir Lösungen zu Ende. Beide Produkte sind speziell dafür ausgelegt, Ihren Polierprozess von Siliziumkarbid-Wafern (SiC) zu verbessern. Sie bieten einen effektiven Ansatz für DMP (Direct Mechanical Planarization) und das Rapid-Thinning-Verfahren.

IRINO-PROSiC: Die nächste Evolutionsstufe beim SiC-Polieren

Das IRINO-PROSiC-Komposit Polierpad ist das neueste Mitglied unserer renommierten IRINO-Familie und wurde mit Blick auf fortschrittliche SiC-DMP-Prozesse entwickelt. Dieses Polierpad wurde für eine hervorragende Oberflächenbeschaffenheit von bis zu 3 nm Ra entwickelt und gewährleistet eine aussergewöhnliche Abtragsrate. Auf diese Weise stellt es eine äusserst wettbewerbsfähige Alternative zu herkömmlichen SiC-Schleifmethoden dar.

 

Zu den wichtigsten Eigenschaften gehören:

  • Innovatives Design für den Rapid-Thinning-Prozess von Pureon – ideal für den direkten Übergang zu CMP.
  • Beste Leistung beim SiC-Polieren – bietet eine hervorragende Geometrie und Ebenheit ohne Kantenverrundung.
  • Flexibles und abrichtbares System – geeignet für ein- und doppelseitige Maschinen.
  • Selbstklebende Rückseite – ermöglicht eine einfache Anwendung auf jeder vorhandenen Metallträgerplatte.

 

Mit IRINO-PROSiC können Anwender gleichbleibende Ergebnisse und einen Wettbewerbsvorteil beim SiC-Polieren erwarten, unabhängig davon, ob eine hohe Oberflächenqualität oder ein erheblicher Materialabtrag angestrebt wird.

 

PURE-DS-RT: Der perfekte Suspensionspartner

Um die Möglichkeiten von IRINO-PROSiC zu maximieren, stellen wir die Suspension PURE-DS-RT vor: Sie wurde speziell für den Rapid-Thinning-Prozess von Pureon entwickelt. Diese wasserlösliche Suspension ist so konzipiert, dass sie an der Luft nicht austrocknet – dadurch ist sie sowohl benutzerfreundlich als auch umweltbewusst.

 

Zu den wichtigsten Eigenschaften gehören:

  • Perfekte Kompatibilität mit IRINO-PROSiC – für optimale Ergebnisse bei Rapid-Thinning-Anwendungen.
  • Hoher Läpp-Druck für höhere Abtragsraten.
  • Stabile, benutzerfreundliche Formulierung – leicht zu reinigen und umweltfreundlich.
  • Vielseitig einsetzbar – erhältlich in sechs Formulierungen, um den spezifischen Anforderungen verschiedener Anwendungen gerecht zu werden, einschliesslich SiC-Wafern und harten Materialien wie Saphir.

 

In Kombination bilden IRINO-PROSiC und PURE-DS-RT ein dynamisches Duo für die SiC-Wafer-Bearbeitung. Diese innovative Kombination ermöglicht Herstellern eine verbesserte Oberflächenqualität sowie Effizienz und erleichtert den Übergang von SiC DMP direkt zu CMP.

 

Ob Sie eine verbesserte Oberflächenqualität, eine bessere Planheit oder höhere Materialabtragsraten anstreben – die neuen Produkte von Pureon sind auf die Herausforderungen moderner SiC-Polier- und Rapid-Thinning-Prozesse zugeschnitten. Entdecken Sie, wie das IRINO-PROSiC-Polierpad und die PURE-DS-RT-Suspension die Leistung Ihres SiC-Polierprozesses steigern können.

Kontaktieren Sie uns gerne für weitere Informationen.

 

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