Das IC1000™-Tuch ist das Standard-Poliertuch für die chemisch-mechanische Polieren (CMP). Das IC1000™-Tuch besteht aus einem steifen, mikroporösen Polyurethan-Material. Dank dieser Eigenschaften bietet das IC1000™-Tuch eine lokalisierte Planarisierung, hervorragende Abtragsraten, geringe globale Ungleichmässigkeit und niedrige Fehleranfälligkeit. Das IC1000™-Tuch arbeitet effektiv mit Suspensionen und Konditionierern zur Optimierung der CMP-Leistung bei Wolfram-, Kupfer-, ILD-, STI- und Polysiliziumprozessen.