Bei der VECTOR HTC-SCA-Serie handelt es sich um Reinigungsmittel auf Wasserbasis. Sie wurden zur Erhöhung der Kavitationsenergie entwickelt, die durch Ultraschall- oder Megaschallgeräte auf der Substratoberfläche frei-gesetzt werden. Die Produkte sind für eine effektivere Reinigung von nachgeläppten, nachgeätzten und nachpolierten Substraten konzipiert. Bei sparsamen Verdünnungsverhältnissen entfernt die VECTOR HTC-SCA-Serie leichte organische Verunreinigungen, Polymere und Submikronpartikel, die typischerweise auf der Oberfläche von Halbleitermaterialien zu finden sind. Diese Verunreinigungen sind häufig die Ursache für Flecken und Schlieren auf Wafern, die nach dem Ätzen auftreten.

Die Reinigungsmittel der Serie VECTOR HTC-SCA werden für die Vorreinigung und die Endreinigung von Solarsilizium-Produktionslinien empfohlen, wo immer eine Ultraschallreinigung durchgeführt wird. Diese Produkte entfernen organische und anorganische Verunreinigungen und Partikel sowohl von monokristallinem als auch von multikristallinem Silizium. Die VECTOR HTC-SCA-Serie kann in beheizten oder unbeheizten Ultraschalltanks verwendet werden und wird auch für Bürsten- und Tauchbeckenanwendungen empfohlen.